Samsung sparker dåsen langt ned ad vejen, hvad angår High NA EUV… på trods af at efterspørgslen er større end udbuddet.
However, ZDNet notes that the technology remains challenging and expensive, while related technologies such as masks and pellicles still need to advance. Conventional EUV multi-patterning and High-NA EUV single patterning are therefore expected to coexist in future processes.
Det er naturligvis ikke gode nyheder, når det kommer fra netop Canatus vigtigste kunde (for at få teknologien ud i marken for første gang).
Andet:
- Intel har High NA EUV i brug i mindre omfang på deres 1.8nm node
-
- bekræftelse på det tidligere, at TSMC ikke har brug for det til A13/A12