Det er vand på Canatus mølle.
Samsung introducerer ‘EUV-pellicle’ først i USA Taylor Fab… Masseproduktion er nært forestående
Samsung Electronics vil først introducere nøglekomponenten ‘Extreme Ultraviolet (EUV) Pellicle’ for at forbedre produktiviteten i avancerede halvlederprocesser på deres Taylor-fabrik under opførelse i USA. Selvom dens indførelse indtil nu har været usikker, har virksomheden i det væsentlige bekræftet det ved at placere ordrer på nøgleudstyr.
Ifølge industrikilder den 22. har Samsung Electronics bestilt EUV-pellicle-faciliteter til deres Taylor-fabrik i Texas, USA. FST har sikret sig en kontrakt til en værdi af 25 milliarder won om at levere udstyr til påsætning/aftagning af EUV-pellicles samt inspektionsudstyr.
En EUV-pellicle er en ultratynd beskyttelseskomponent, der monteres på fotomasken under eksponeringsprocessen. Halvledere skabes ved at skinne lys på en fotomaske med præ-tegnede kredsløb for at overføre dem til waferen. Ved at anvende EUV-pelliclen forhindres fine partikler eller forurenende stoffer i at klæbe til fotomaskens overflade, hvilket mindsker reduktioner i udbyttet.
For at bruge EUV-pelliclen i eksponeringsudstyr kræves der dedikeret værktøj til påsætning/aftagning og inspektionsudstyr til at tjekke dens tilstand, og disse vil blive introduceret på Taylor-fabrikken for første gang. FST-udstyret understøtter ikke kun næste generations carbon nanotube (CNT) EUV-pellicles, men også eksisterende metal-silicid (MeSi) EUV-pellicles.
Tidligere har konkurrenten TSMC gradvist introduceret Mitsui Chemicals’ metal-silicid EUV-pellicle siden 2019 og anvendt den på avancerede processer.
Samsung Electronics har presset på for lokalisering af EUV-pellicles ved at investere i S&STech og FST i henholdsvis 2020 og 2021. Med denne seneste udstyrsinvestering vurderes det, at der er opnået tilstrækkelig ydeevne, hvilket signalerer, at indførelse er nært forestående. Dette indebærer, at pelliclens vigtigste præstationsmålinger – holdbarhed og transmittans – har nået tilfredsstillende niveauer.
En talsmand fra industrien udtalte: “Kvalitetsevalueringen af EUV-pelliclen pågår i øjeblikket, men introduktionen af udstyr baseret på anvendelse i masseproduktion på Taylor-fabrikken er en positiv udvikling,” og tilføjede: “Det forventes at blive udvidet til hukommelsesprocesser i fremtiden, startende med system-halvlederprocesser.” Taylor-fabrikken er et halvlederproduktionsanlæg, som Samsung Electronics bygger med det mål at påbegynde 2-nanometer (nm) masseproduktion i anden halvdel af dette år. Teslas kunstige intelligens (AI)-chip ‘AI5’ er også planlagt til masseproduktion der i løbet af året.
Samsung Electronics besidder i øjeblikket over 70 EUV-maskiner, hvilket rangerer dem som nummer to efter TSMC. Som sådan forventes indførelsen af indenlandsk producerede EUV-pellicles at have en væsentlig afsmittende effekt på udstyrs- og komponentindustrien. Prisen på en EUV-pellicle anslås til at være over 60 millioner won.
Hvis jeg har forstået det rigtigt, så:
- EUV-litografi bruges i produktionen af de nyeste hukommelser (som jeg gættede på i forrige besked)
- Masseproduktion er ved at starte (henviser efter min mening stadig til HBM4 eller tilsvarende hukommelser)
- Samsung indfører brugen af pellicles som en del af produktionen på deres USA-fabrikker i løbet af H2.
- Forudsat at de nuværende ‘hundredvis af wafers om dagen på en bestemt lokation’ sandsynligvis er præ-produktion på en eksisterende fabrik (f.eks. Korea), så tyder denne nyhed altså på en udvidelse af teknologien til også at omfatte USA. Dette indebærer en vis usikkerhed, men tolket med ‘finske briller’:
- uanset hvad øger dette sikkerheden for brugen af Canatus produkter på en eller flere fabrikker allerede i år