Här är lite halvledarterminologi översatt till vardagsspråk. Det snuddar vid ämnet, men moderatorerna kan flytta det vid behov. Alla ord har inte nödvändigtvis en direkt översättning, så det blir en hel del “fingelska” (finglish) i arbetslivet.
Låt oss börja:
Litografi: Ett område i renrummet. I det här området sker vanligtvis applicering av fotoresist (coater developing), vars uppgift är att sprida ett tunt lager kemikalie (fotoresist) på waferns (kiselplattans) yta. Kemikalien reagerar med ljus och på så sätt kan man belysa eller “printa” önskat mönster på waferns yta. Exponeringsutrustning fungerar också inom litografiområdet. De kan kallas för termer som projection aligner, scanner eller stepper. Du känner igen litografiområdet på de gula lamporna i taket. Tanken med detta är att filtrera taklampornas våglängd så att den inte reagerar med den känsliga fotoresisten på kiselplattans yta. Litografi är en typ av fotografering där ett visst mönster exponeras på plattans yta och slutligen framkallas så att bilden stannar kvar på ytan.
Mask: Masken innehåller det mönster som man vill exponera på kiselplattans yta. Används i projection aligner, scanner och proximity/contact-exponeringsmaskiner.
Retikel: Idén med en retikel är densamma som för en mask, men retikeln består av mindre delar av bilden. Retikel används endast i en stepper-maskin.
Pellikel: Skyddar masken eller retikeln från partiklar. Har nämnts i den här tråden flera gånger.
Stepper: Kommer från orden Step and Repeat. Stagen (bordet) rör sig ett steg under optiken, ljuset passerar genom retikeln och exponerar det önskade mönstret på plattans yta. Därefter rör sig stagen igen och samma sak upprepas.
Stage: Vanligtvis en enhet som drivs av linjärmotorer inuti exponeringsutrustningen, som rör sig i X-, Y- och Z-led. Ovanpå stagen vilar en wafer chuck.
Wafer chuck: Kiselplattans bädd, som den vilar på när exponeringen sker.
Scanner: En exponeringsmaskin som scannar önskat mönster på plattans yta. Stagen rör sig kontinuerligt i X- och Y-led.
Ljuskälla: Som ljuskälla kan man använda en kvicksilverlampa eller, i ASML:s fall, en laser. Ljuskällan passerar genom masken eller retikeln, varefter den vanligtvis går in i optiken (tänk på optiken i en kamera) och därifrån mot kiselplattan, där det mönster som ska exponeras slutligen skapas.
DUV: Deep ultraviolet, en ljuskälla som arbetar på en våglängd på ca 200–280 nm.
EUV: Extreme ultraviolet, en ljuskälla som arbetar på en våglängd på ca 13,5 nm.
Dos (Dose): Mängden energi som avges vid en exponering. Vanligtvis med enheten mJ/cm^2.
CD: Critical dimension, linjebredd eller storleken på den struktur som skapats på kiselplattans yta vid exponeringen. Förväxla inte detta med “Node”.
DOF: Depth of Focus, den tolerans inom vilken det exponerade resultatet är inom acceptabla gränser.
Fokus: Brännpunkten där det exponerade resultatet blir bäst. Vanligtvis när man pratar om fokus, pratar man om stagens Z-rörelse.
L/S: Line and space. Vanligtvis utvärderas exponeringsutrustningens prestanda med ett L/S-test, där linjer med önskad bredd exponeras på plattans yta och den uppnådda linjebredden mäts.
Overlay: Man jämför förhållandet mellan två exponerade lager mot varandra.
Upplösning: Exponeringsutrustningens optiska prestanda. Ju mindre upplösning (finare upplösningsförmåga), desto mindre linjer eller mönster kan exponeras på kiselplattan.
Ovanstående är bara ett skrap på ytan av halvledarindustrins litografi. Jag försökte förklara så enkelt som möjligt, kanske utan att lyckas helt. Man kan alltid fråga mer.