Jos pari viestiä jaksat kelata ylöspäin niin löytyy sopivasti linkki hyvin kirjoitettuun Aten laajaanraporttiin josta selviää vastaukset.
Olen hieman tutkinut ASML:n laitteen valonlähdettä nyt kun kovasti ASML tykittää joka tuutista kuinka source teho saadaan nousemaan jopa 1000 wattiin 2030 luvulla. Löysin SEM kuvan josta paljastuu, että ASML:n valonlähteen tuottama lämpö jopa alkaa tekemään muodonmuutoksia itse maskiin. Jotain ironiaa kait tässä on, kun pellikkelin tehtävä on suojata maskia, mutta nyt itse maskista alkaa tulemaan paahtoleipä.
Vielä kertauksena eilisestä ASML:n tulosjulkkarista ASML:n roadmappi. Low NA:ta kehitetään jatkuvati ja kun halutaan lisää throughputtia laitteeseen(kuvaajassa WpH) yksi tekijä on, että laitteen tehon on noustava.
